每經(jīng)記者｜蔡鼎    每經(jīng)編輯｜何劍嶺    

圖片來源：攝圖網(wǎng)

今日（3月25日）下午收盤后，中微公司通過其官方微信公眾號“中微半導體設備”發(fā)布了一份澄清聲明，該聲明用“虛構(gòu)事實”、“夸張標題”等措辭對今日網(wǎng)上流傳的一份標題為“中國最強牛人回國，把中國芯推上了世界舞臺，讓美國痛心疾首”的視頻進行了否認，稱該視頻存在很多不符合事實的報道內(nèi)容。

此外，中微公司還在聲明中對公司董事長尹志堯被美國政府層層審查、公司與華為的業(yè)務往來等不實報道進行了否認，并作出了強力回應。

中微公司主業(yè)為開發(fā)和制造芯片制造的設備

中微公司在聲明中稱，集成電路產(chǎn)業(yè)是一個集千百萬人智慧的產(chǎn)業(yè)，是英雄輩出的產(chǎn)業(yè)，并非單靠幾個“牛人”就把中國芯推上世界舞臺，更不存在什么“最強”的牛人。

“集成電路的芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)極其復雜，有幾十層的微觀結(jié)構(gòu)，需要經(jīng)過幾百個乃至上千個高度精密的步驟才能制造出來。光刻機、等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造集成電路芯片必需的十大類設備中非常關(guān)鍵的、同時也是市場規(guī)模最大的三類設備。在集成電路設備領(lǐng)域和泛半導體設備領(lǐng)域，中微公司專注于開發(fā)和銷售等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備，在公司已公告的2019年度半年度報告中，也披露了公司等離子體刻蝕設備的應用。但要制造出集成電路芯片，需要有芯片設計、器件集成技術(shù)的開發(fā)和十多類集成電路制造設備的共同努力。中微公司的主業(yè)為開發(fā)和制造芯片制造的設備，并非研發(fā)和制造集成電路芯片本身。”中微公司在聲明中寫道。

聲明中同時稱，公司董事長尹志堯與其一起回國創(chuàng)業(yè)的同仁，充分了解并嚴格遵守美國政府及高科技界對知識產(chǎn)權(quán)保護的各項規(guī)定，并在離開美國公司時按規(guī)定交回了一切屬于原公司的技術(shù)和商業(yè)機密文件，且在回國創(chuàng)業(yè)時，沒有帶回屬于原公司的文件，也沒有受到原公司和美國政府的審查。

聲明中補充稱，成立以來，中微公司成功應對來自三家國際領(lǐng)先半導體設備公司的數(shù)輪國際知識產(chǎn)權(quán)訴訟挑戰(zhàn)，涵蓋商業(yè)秘密和專利，或贏得訴訟，或與對方和解，均取得滿意結(jié)果。在過去的15年里，中微公司和美國商務部及下屬工業(yè)安全局也經(jīng)常進行溝通。2013年美國商務部工業(yè)安全局授予中微公司“合法終端用戶”（Validated End-User）資格；由于中微公司開發(fā)出與美國設備公司具有同等質(zhì)量和相當數(shù)量的等離子體刻蝕設備并實現(xiàn)量產(chǎn)，美國商務部工業(yè)安全局在2015年將等離子體刻蝕設備從商業(yè)控制清單中移除。

國內(nèi)光刻機市場被荷蘭ASML壟斷

中微公司主要生產(chǎn)蝕刻機、MOCVD等設備，它們與光刻機被稱為半導體制造三大關(guān)鍵設備。但與蝕刻機、MOCVD相比，光刻機才是芯片制造中用到的最金貴的機器，要達到5納米曝光精度難比登天，荷蘭ASML公司一家通吃高端光刻機。而刻蝕機沒那么難，中微公司的競爭對手還有應用材料、泛林集團、東京電子等等，國外巨頭體量優(yōu)勢明顯。

集成電路光刻工藝環(huán)節(jié)，包括涂膠、光刻、顯影、刻蝕、去膠、清洗、烘干等，因此光刻工藝設備，主要是指光刻機、涂膠顯影設備、去膠設備和相關(guān)檢測設備?？涛g機，顧名思義，對應的是芯片制造中的“刻蝕”這一步。在芯片制造中，“光刻”和“刻蝕”是兩個緊密相連的步驟，也是非常關(guān)鍵的步驟。“光刻”就相當于用投影的方式把電路圖“畫”在晶圓上，但電路圖其實不是真的被畫在了晶圓上，而是被畫在了晶圓表面的光刻膠上。光刻膠表層是光阻，一種光敏材料，被曝光后會消解。而“刻蝕”，才是真正沿著光刻膠表面顯影的圖案，將電路圖刻在晶圓上。

中銀國際在近期發(fā)布的一份研報中指出：“全球89%的光刻機市場被荷蘭ASML壟斷，全球88%的涂膠顯影設備市場被TEL壟斷，光刻機和涂膠顯影設備國產(chǎn)化率非常低；去膠設備國產(chǎn)化率達到81%，去膠設備主要是屹唐半導體實現(xiàn)國產(chǎn)化。”

國家大基金二期明確會加大對設備與材料的支持力度

而正是由于國內(nèi)的光刻膠也被荷蘭ASML所壟斷，這一制造芯片的必須設備也成為了國內(nèi)的稀缺資源。近日，有報道稱國際集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期正在緊鑼密鼓地推進過程中。中證網(wǎng)此后消息稱，國家大基金二期三月底應該可以開始實質(zhì)性投資。

據(jù)悉，大基金曾在去年半導體集成電路零部件峰會上表示，大基金二期將從3個方面重點支持國產(chǎn)設備與材料發(fā)展：（1）二期基金將對在刻蝕機、薄膜設備、測試設備和清洗設備等領(lǐng)域已布局的企業(yè)保持高強度的持續(xù)支持，培育中國大陸“應用材料”或“東電電子”的企業(yè)苗子；（2）加快開展光刻機、化學機械研磨設備等核心設備以及關(guān)鍵零部件的投資布局，填補國產(chǎn)工藝設備空白；（3）督促制造企業(yè)提高國產(chǎn)裝備驗證及采購比例，為更多國產(chǎn)設備、材料提供工藝驗證條件。

東北證券表示，國家半導體大基金二期蓄勢待發(fā)，重點關(guān)注半導體設備板塊投資機會。大基金一期以制造為主，兼顧設計和封測的情況下，大基金二期有望加大對半導體設備和材料環(huán)節(jié)的投入，疊加國內(nèi)晶圓廠投建高峰來臨，設備企業(yè)的產(chǎn)品不斷成熟和放量，半導體設備領(lǐng)域有望實現(xiàn)更快速的增長，建議重點關(guān)注國內(nèi)半導體設備龍頭晶盛機電、北方華創(chuàng)、中微公司、蘇試試驗、長川科技、華峰測控、精測電子、賽騰股份。

中銀國際表示，盡管大基金一期對設備與材料投資比例偏低，但大基金二期已明確會加大對設備與材料的支持力度，因此大基金二期即將啟動投資，將是國產(chǎn)半導體設備與材料板塊強勁表現(xiàn)的主要催化劑之一，繼續(xù)推薦北方華創(chuàng)、精測電子、萬業(yè)企業(yè)、晶盛機電、長川科技，關(guān)注中微公司、至純科技、芯源微、華峰測控、雅克科技、華特氣體、中環(huán)股份、晶瑞股份、南大光電等。